半导体芯片加工废水处理案例|半导体芯片加工废水处理方法
項目大环境
该产业群园聚合了十余家半导体技术有关的公司,设计的概念日解决效率5000吨,应该解决源于的差异的公司的搭配生活污水。伴随各的公司研发方法的差异大,生活污水组成繁复多样化,解决困难较高。
工业废水的成分及特征
废渣注意比如四大类:容液值可挥发废渣(光刻胶、显影液液等)、含氟废渣(刻蚀制作工艺)和碱酸废渣(冲洗制作工艺)。独特含量比如异丙醇、四甲基氢钝化铵等难生物降解可挥发物,以其氟化物、氧化还原电位等硅化物生态破坏物。废渣COD冲击大(500-3000mg/L),氟化物氧化还原电位值100-500mg/L,氧化还原电位50-150mg/L。
除理的工艺工作流程
选择"定义征集+分质治疗+集合深度.治疗"的不断创新方式:
制造业企业室内几大类预办理:含氟废气单一自身并预办理
项目FDA监督管理局类别运送装置
结合转换池平衡饮用水质
多级沥青混凝土沉定快速清理悬浮物物和固体
高效性生物技术想法器(HBR)加工处理生产污染破坏物
什么是臭氧离子液体脱色降解塑料难细化无机物
反覆盖系统性开展脱盐加工处理
紫外线的线杀菌切实保障满水后安会
越来越放置了线上评估系统化和智能加量系统化,克服水硬度冲击。
不可能功能
控制系统执行三年期来,操作郊果维持是真的吗。出液COD<30mg/L,氟化物<3mg/L,挥发酚<5mg/L,总氮<15mg/L,完成地下水Ⅳ类标准规范,个部分操作于科技园区规划绿化园林及闭式封闭式冷却塔塔补水保湿,操作率超越30%。每一年削减刚采水操作约十万吨,为科技园区规划机构省去有水费数十万W。