某半导体行业研发公司因晶圆刷洗加工过程发生含氨化工废水，的水量200吨/天。化工废河中除氯离子外还包含有氟化物和氢化物发生器天价属，工作关卡大。本省废气排放标淮需要氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 污废水 成份及渠道 晶圆进行维护清洁污水（大部分特征）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀加工过程废污水：含少量铜、镍等巨资属，pH值冲击大 CMP考虑废渣：含硅颗粒状及高锰酸盐指数 外理生产技术标准流程 运用"检查是否水解+膜溶合+折点氯化"搭配的工艺： 预治理 ：污泥脱水CaCl2除氟，设定pH在7.5-8. 反渗透装置系统化 ：剔除0.01μm上小粒物 反渗透膜性精浓 ：将高锰酸盐指数原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 至1000mg/L上 折点氯化 ：精确性操控氯加药量，将挥发酚应用为离氮气 化合物传递 ：得到保障高价属标准 结果的效果 高锰酸盐指数固定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属含磷量不超探测限 水中水回用率达75% 活性污泥诞生量降低40%