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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

产品历史背景 该光电器件营造开发区是在华中城市,总投资者高于200上亿元,大区域生孩子12英尺晶圆和比较好的封口商品。开发区日尾气废气排放口标准废供水量约5000吨,含盖许多种生产工艺生产行业废水,处里困难程度大。大型项目想要生产行业废水处里后实现《电子元器件行业水被污染的物尾气废气排放口标准标准》(GB 39731-2020)独特尾气废气排放口标准规定值,区域工业废水处理率不不超60%。 废渣材料及的来源 含氟电镀废水:基本来晶圆蚀刻、洁净工艺流程,氟铁离子溶度万代高达200-500mg/L,pH值震荡大 有机化学肥料污废水 :光刻、定影、去胶等道工序生产,COD质量浓度300-800mg/L,富含异丙醇、异丙醇等有机化学肥料容剂 含铜电渡废水:电渡、化学上的机增加光泽(CMP)制作工艺生成,铜化合物有机废气浓度50-150mg/L 耐酸碱废气排放:生产设备家电清洗、废气排放洗涤剂等流程会产生,pH值在2-12期间变化 研磨机污水:CMP多种工序生产,包含有奈米级二钝化硅粉末 整理生产技术步骤流程 选用"分级汇集+分质正确处理+深度的水净化"的搭配制作工艺: 含氟生活污水治疗线 : 两极生物奠定:先污泥脱水氯化钙上下调整pH至6-7,加个入PAC和PAM二沉池奠定 物理吸附性硫化铝物理吸附:为了确保氟正离子氧化还原电位降为5mg/L接下来 飞灰经板框压滤后委托授权专业应对 有机化学生活污水处置线 : 微电解抛光法预操作:铁碳微电解抛光法光降解大生物大分子可挥发物 UASB水解酸化池不起作用器:HRT=24h,COD消除率>60% MBR膜生态学影响器:适用PVDF空芯合成纤维膜,通量15LMH 含铜生产废水办理线 : 化学上沉定:加药系统NaOH调理pH至9-10,形成了Cu(OH)2沉定 阴阳离子传递:两极环氧树脂传递以保证铜阴阳离子<0.3mg/L 电解设备法再利用:要素工业废水经电解设备法再利用金属件铜 综和治理 平台 : 改善池:平衡水源用水量,设水解酸化池搅匀 混泥土放置:加药系统复合型斜管沉淀池剂清掉溶液类物质 O3催化脱色脱色:分解难分解有机会物 反固化系統:脱盐率>98%,产水中水回用于出产线 工业废水清理控制系统 : 污泥干化提液池:无水硫酸铜溶度从1%提高了至3% 离心式脱水处理:成为PAM调理改善,泥饼含水分率<75% 温度过低干化:有些厌氧颗粒污泥干化至含水量率30%下述 结果结果 建设项目建设开机运行后,相关指数公式相对稳定合格:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜阴阳离子<0.3mg/L、pH 6-9。循环水水硬度达标GB/T 19923-2005企业供水规定,循环率65%,每一年的节俭新颖水使用约115万吨。厌氧颗粒污泥生成量以减少40%,有风险性固体废物妥善处理成本价下降35%。软件全全自动化数量高,一直在线监测网数值与节能减排部们即时连接wifi。

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