半导体晶圆划片废水怎么处理方法|半导体晶圆划片废水处理案例
活动情况
该各个制造业企业主为世界专业的半导体设备公测各个制造业企业主,隶属于珠三边形中南部,通常实现高端品牌电子器件的片区和装封测评。伴随当地城市节能让标准,各个制造业企业主决定性实现污水零排污业务 。业务于22年进行,202一年6月建设完工投入使用,除理面积为200吨/日,总投資约2000余万元。
焦化废水有效成分及来源于
该类重要性划区废水处理方法存在一下的特点:
高质量渗透压氟化物,通常产于晶圆打磨后的清洁工作步骤,氟化合物质量渗透压万代高达150-200mg/L
包含的nm级硅粉颗粒剂,粒度分布多在100-500nm中
有机酸负载较高,COD在500-800mg/L
包含的少量血本属如铅、镉等
纯水电导率高,一般说来在2000-3000μS/cm
清理标准流程标准流程
为保持零排卸关键,生产技术设计的比较偏重考虑到废气进行分类搜集和的资源回笼:
污废水 种类抽取平台
:将含氟废渣与某些废渣独立收录
生物学滤渣除氟
:所采用两极钙盐沉积法,结合更高效沉积池
高等防氧化处置
:臭氧老化催化反应钝化化学降解难整理有机酸物
膜原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 系統
:采用了DTRO碟管式反融合,沉淀数倍为10倍
多效蒸发成果
:MVR机水蒸气再挤压蒸发掉器治理浓水
常温、干燥系統
:将成果盐缺水后有所作为工业企业副的产品外售
操作作用
平台行驶数据文件屏幕上显示:
氟化物我们要除率>99.9%,有水出氟化合物<1mg/L
COD总我们要除率>98%,冒水COD<20mg/L
水源共享再利用率>95%,仅制造少量出晶粒盐
年均回收利用处理高好品质使用水约六万吨
晶体盐溶解度完成重工业级基准,体现资源的化合理利用
工程项目不只满足了污废水 零尾气排放,还借助资源性收售塑造了约80万元左右/年的木制托盘收益的。