半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
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该品牌专注生产销售半导体芯片用高纯氟化氢和六氟化钨,废液氟有机废气浓度很好且部分繁复。同一加工方法使用效果不不稳定性,氟化物摆放一直不合格。项目流程注资2200万元建设规划好一点加工场地设施,设定加工意识500吨/天。
废渣基本成分及起源
废水处理大部分来加工设配家电清洗和印刷废气洗衣机清洗:
氟化合物有机废气浓度:1500-3500mg/L
含盐酸根阴阳离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含氢化物发生器钨、钼等彩石设计
治疗工艺设计流程步骤
真对高含量特征,通过"结合+多用奠定+膜处里"生产技术:
废渣采集池:几大类采集有差异 溶液浓度废渣
与发应池:分时段污泥脱水氢脱色钠和氢脱色钙,操控最后pH至7.5-8.
水解酸化池影响池:添加PAC和PAM加强悠长岁月中视觉效果
斜管沉淀物池:高效益固液剥离
多物料过滤程序器:除掉细微科粒
反加入系统软件:强度脱盐和除氟
淤泥精提缺水等模式:离心法缺水等后淤泥建筑垃圾清运专业的处里
在线免费污染监测体统:雷达回波图实时监控系统氟化合物渗透压和pH值
最后效果好
处置程序运营数据库:
泡水氟铁离子年均盐浓度:2800mg/L
满水后氟铁离子密度:3.2mg/L(平均的)
氟清掉率:99.9%这
水使用率:超过65%
体系系统工业自动化因素高,控制电镀废水治疗料工费降低了30%,年的回收利用氟化钙副物料约400吨。